Schlagwort: Gebrauchsmuster
Chinesische Delegation des Patentamts besucht Frankfurt
Eine Delegation des Chinesischen Patentamts wird im Rahmen der IAA Frankfurt besuchen um sich über die Durchsetzung des Geistigen Eigentums auf Messen zu informieren.
25 Jahre PIZ Kassel – Patent- und Markenanmeldungen in Nordhessen – besser als im Bundesdurchschnitt!
Zum 25-jährigen Jubiläum hat das Patentinformationszentrum (PIZ) Kassel eine Bilanz gezogen. Es wurde eine Broschüre erstellt, die ab dem 01. Oktober 2014 zum Download bereit steht.